紫外光臭氧清洗機 UV Ozone - 美國 NovaScan 原廠授權台灣代理商
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Novascan臭氧清洗機被廣泛應用於半導體晶圓的生產和學術實驗室，在製造LCD的過程中,去除表面和剝離抗蝕劑，改善表面親水性，清潔AFM探針，SEM ＆TEM樣品，聚合物活化，PDMS /玻璃微流體裝置的組裝/貼合，玻璃和一系列其他UV臭氧清潔和氧化應用等。
Novascan UV臭氧清洗機已被證明可用非酸性，乾性，非破壞性的方式,使用185 nm和254 nm紫外光去除有機污染物是非常有效的儀器,185nm產生臭氧，而254nm激發表面上的有機分子,這種組合可使有機污染物快速的被破壞和去除。
臭氧清洗機可以清潔玻璃,矽晶片,砷化鎵,ITO,石英,雲母,藍寶石,氧化金屬,陶瓷,晶圓,生產線LED顯示螢幕,金表面,鉑金表面,微流控制PDMS,使疏水表面更具親水性
為進一步加強處理，PSDP-UVT紫外線臭氧清洗機可利用紫外線臭氧和加熱的功能，提高樣品表面的能量,以獲得更好的效果。
Novascan UV臭氧清洗機已被證明可用非酸性，乾性，非破壞性的方式,使用185 nm和254 nm紫外光去除有機污染物是非常有效的儀器,185nm產生臭氧，而254nm激發表面上的有機分子,這種組合可使有機污染物快速的被破壞和去除。
臭氧清洗機可以清潔玻璃,矽晶片,砷化鎵,ITO,石英,雲母,藍寶石,氧化金屬,陶瓷,晶圓,生產線LED顯示螢幕,金表面,鉑金表面,微流控制PDMS,使疏水表面更具親水性
為進一步加強處理，PSDP-UVT紫外線臭氧清洗機可利用紫外線臭氧和加熱的功能，提高樣品表面的能量,以獲得更好的效果。
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- 1.PSD-UV : 標準型 - Standard UV / Ozone System,反應時間為15,30,60,120 min
- 2.PSDP-UV : 進階型 - Digital Pro UV / Ozone System,以5秒為單位自設反應時間
- 3.PSDP-UVT : 進階加熱型 - Digital Pro UV / Ozone System 可加熱至150度C
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- 4.特殊機型 : 除了4",8",10",12" 以外,另可提供16*16" to 10*20" 與 20*20" 機型,或是客製化特殊小燈管大樣品機型
- 各項機型及規格如下圖，歡迎來電或以email 洽詢
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Material :
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Application :
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